專利侵害鑑定之判斷流程，在發明、新型專利侵權是先解釋專利請求項，再解析專利解釋後請求項的技術特徵及被控侵權對象對應之技術內容，分別進行比對判斷；設計專利侵權則是先確定專利權範圍，再就專利之圖式與被控侵權對象對應該圖式之設計內容進行整體比對，判斷是否相同或近似。
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